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二，几种常见的电位器

1. 线绕电位器(型号 WX)

线绕电位器是利用电阻合金线在绝缘骨架上绕制而成的，常用于精密电位器和大功率 电位器.国内精密线绕电位器的精度可达 0.1%，大功率电位器的功率可达 100W 以上.

2. 合金碳膜电位器(型号 WH)

这种电位器是在绝缘基体上涂复一层合成碳膜，经加温聚合后形成碳膜片，再与其它

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零件组合而成. 这类电位器阻值分辨率高，变化连续，范围宽(100~5M) ，功率一般有

0.125W， 0.5W，1W，2W 等.精度较差，一般为±20%.耐温，耐潮性差，使用寿命较低.但由于 它成本低，厚膜功能板，因而广泛用于家用电器产品中，如收音机，电视机等.阻值变化规律分线性和

非线性两种，轴端形式分带锁紧与不带锁紧两种.

3. 有机实芯电位器(型号 WS)

由导电体与有机材料和热固性树脂制成电阻粉，在基座上通过热压形式实芯电阻体. 这类电位器阻值范围一般在 47~4.7M 之间，厚膜线路板，功率多在 0.25~2W 之间，精度有±5%，± 10%，20%几种.这类电位器结构简单，体积小，寿命长，可靠性好.缺点是噪声大，启 动力矩大，因而多用于对可靠性要求较高的电子仪表中.这类电位器有带锁紧与不带锁紧 两种，轴端尺寸与形状有不同规格.

4. 多圈电位器

这是一种精密电位器，它有带指针，不带指针等形式，阻值调整精度高，调整圈数有 5 圈，10 圈，最多可达 40 圈.在阻值要求大范围内进行微量调整时，可选用多圈电位器.

v液体光致抗蚀剂感光的有效波长为300—400nm，因此对干膜和液体光致阻焊剂进行曝

光的设备亦可适用于湿膜曝光，曝光量100—300mJ／平方里米。

v

因为烘烤后膜层的硬度还不足1H，因此曝光对位时需特别小心，以防划伤。虽对湿膜适用

的曝光量范围较宽，但为了增加膜层的抗蚀和抗电镀能力，以取高限曝光为宜。其感光速度与干膜相比要慢得多，所以要使用高功率曝光机。

v

当曝光过度时，正相导线图形易形成散光侧蚀，造成线宽减小，反之负相导线图形形成散 光扩大，线宽增加。当曝光不足时，膜层上出现针孔、砂眼等缺陷。

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