云南电阻片、厚博电子、功能电阻片的详细描述：

v印制蚀刻工艺流程：

v下料→板面清洁处理→涂湿膜→曝光→显影（贴干膜→曝光→显影）→蚀刻→去膜→进入下工序

v畋形电镀工艺过程概括如下：

v下料→钻孔→孔金属化→预镀铜→板面清洁→涂湿膜→曝光→显影（贴干膜→曝光→显影）→形成负相图象

→图形镀铜→图形电镀金属抗蚀层→去膜→蚀刻→进入下工序

图像转移有两种方法，一种是网印图像转移，一种是光化学图像转移。网印图像转移比光

化学图像转移成本低，在生产批量大的情况下更是如此，但是网印抗蚀印料通常只能制造大于 或等于o．25mm的印制导线，而光化学图像转移所用的光致抗蚀剂朗制造分辨率高的清晰图

像。本章所述内容为后一种方法。光化学图像转移需要使用光致抗蚀剂，下面介绍有关光致抗蚀剂的一些基本知识

三，几种常电阻器的结构，特点及应用

1.薄膜类 (1) 金属膜电阻器(型号 RJ) 真空条件下，FR4电阻片，在陶瓷表面上蒸发沉积一层金属薄 .

膜或合金膜形成的金属膜电阻器.

特点:工作环境温度范围广(-5~+125 0 C ) ，温度系数小，噪声低，体积小(与碳膜电阻器

相比，相同体积下，额定功率相差一倍左右) . 本类电阻器在稳定性要求较高的电路中广泛应用.额定功率为 0.125，0.25，0.5，1， 2W 等.标称阻值在 10~10M 之间.精度等级为±5%~±10%等.

(2) 金属氧化膜电阻器(型号 RY) 高温条件下，在磁体上以化学反应形式形成 .

以二氧化锡为主体的金属氧化层. 该种电阻器的膜层厚度比金属膜和碳膜电阻器均厚得多， 并与基体附着力强，它有极好的脉冲，高频和过负荷性:机械性能好，坚硬，耐磨;在空 气中不会再氧化，化学稳定性好.但阻值范围窄，温度系数比金属膜的大，外形和金属膜 电阻器相似.

(3) 碳膜电阻器(型号 RT) 这是一种应用最早，最广泛的薄膜型电阻器.它由 .

碳氢化合物在真空中通过高温热分解，使碳在瓷质基体面上沉积成导电膜而制成.本种电

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阻范围宽(10~10M)

.额定功率为

1/8~10W.精度等级为±5%，±10%，±20%.体积 比金属膜电阻器大，温度系数为负值.此外，特点是价格低廉，在各类电阻器中是最

廉价的一种，因此，在电子产品中被广泛使用.通常碳膜电阻器的外表以绿漆为特征.

2.合金类 (1)精密线绕电阻器(型号 RX) 在测量仪表或其它要求精高的放大电路中， .

可采用精密线绕电阻器，这种电阻器一般精度为±0.01%，可达 0.005%或更高，温度 系数小于