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v干膜光致抗蚀剂的结构
干膜光致抗蚀剂由聚酯薄膜,光致抗蚀剂膜及聚乙烯保护膜三部分组成。 聚酯薄膜是支撑感光胶层的载体,陶瓷电阻片,使之涂布成膜,厚度通常为25μm左右。聚酯薄膜在曝
光之后显影之前除去,碳膜电阻片,防止曝光时氧气向抗蚀剂层扩散,破坏游离基,引起感光度下降。 聚乙烯膜是复盖在感光胶层上的保护膜,防止灰尘等污物粘污干膜,避免在卷膜时,每层
抗蚀剂膜之间相互粘连。聚乙烯膜一般厚度为25μm左右。
光致抗蚀剂膜为干膜的主体,多为负性感光材料,其厚度视其用途不同,有若干种规格,最薄的可以是十几个微米,最厚的可达100μm。
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干膜光致抗蚀剂的制作是先把预先配制好的感光胶在高清洁度的条件下,在高精度的涂 布机上涂覆于聚酯薄膜上,经烘道干燥并冷却后,覆上聚乙烯保护膜,卷绕在一个辊芯上。
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v★光致抗蚀剂膜层的主要成分及作用
:我国大量用于生产的是全水溶性干膜,这里介绍的是全水溶性干膜感光胶层的组成。
v1)光致抗蚀剂:用光化学方法获得的,能抵抗住某种蚀刻液或电镀溶液浸蚀
的感光材料。
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2)正性光致抗蚀剂:光照射部分分解(或软化),曝光显影之后,能把生产用照相底版上透
明 的部分从板面上除去。
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3)负性光致抗蚀剂:光照射部分聚合(或交联),曝光显影之后,能把生产用照相底版上透
明的部分保留在板面上。
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4)光致抗蚀剂的分类:
按用途分为耐蚀刻抗蚀剂和耐电镀抗蚀剂。网络排阻,印刷,电子尺电阻板,吉林电阻片,厚膜电容,喷码机专用不锈钢加热片,湿敏电阻片,叉车踏板传感器电阻片,单列直插式网络排容,FR4 电阻板, 无接触式电阻传感器,印刷加工,厚膜芯片.游戏机控制开关
按显影类型分为全水溶性抗蚀剂、半水溶性抗蚀剂和溶剂性抗蚀剂。
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按物理状态分为液体抗蚀剂和干膜抗蚀剂
按感光类型分为正性抗蚀剂和负性抗蚀剂。
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