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厚博电子(图)|节气门电阻片|云南电阻片

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    v印制蚀刻工艺流程:

    v下料→板面清洁处理→涂湿膜→曝光→显影(贴干膜→曝光→显影)→蚀刻→去膜→进入下工序





    v畋形电镀工艺过程概括如下:

    v下料→钻孔→孔金属化→预镀铜→板面清洁→涂湿膜→曝光→显影(贴干膜→曝光→显影)→形成负相图象

    →图形镀铜→图形电镀金属抗蚀层→去膜→蚀刻→进入下工序

    图像转移有两种方法,一种是网印图像转移,一种是光化学图像转移。网印图像转移比光

    化学图像转移成本低,云南电阻片,在生产批量大的情况下更是如此,但是网印抗蚀印料通常只能制造大于 或等于o.25mm的印制导线,而光化学图像转移所用的光致抗蚀剂朗制造分辨率高的清晰图

    像。本章所述内容为后一种方法。光化学图像转移需要使用光致抗蚀剂,节气门电阻片,下面介绍有关光致抗蚀剂的一些基本知识


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    印制电路图形的导线越来越细、孔径越来越小及孔环越来越窄的发展趋势永无停止,芯片间脚间距从1.27mm降到0.75-0.625mm甚至更小。实际上焊盘尺寸仅比孔径大0.05mm;当孔中心距为1.25mm中间布线0.10mm三根导线,此时焊盘仅比孔径大0.12mm。因此焊盘每边比孔径大0.06mm。这种规格要求的印制电路板无论是双面、多层或SMT用印制电路板以及出现BGA板即球栅阵列一种组装结构工艺。就BGA用的多层印制电路板板(外层导线宽度为0.10-0.12mm、内层导线宽度为0.10mm、间距为0.075mm),
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