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v一般在产品包装单或产品说明书上都标出光致抗蚀层的厚度，可根据不同的用途选用不

同厚度的干膜。如印制蚀刻工艺可选光致抗蚀层厚度为25μm的干膜，图形电镀工艺则需选光 致抗蚀层厚度为40μm的干膜。如用于掩孔，光致抗蚀层厚度应达到50μm。如镀厚金板还得选用50μm的专用镀金干膜，一般情况下， 40μm的干膜都可以满足正常的要求，在一些厂家， 40μm的干膜都可以做线宽线隙为3MIL的平行线了， 掩孔方面，也可掩住4.5MM以下的孔，当然，对那些线路简单而掩5.0MM以上的孔，选用50μm的干膜.有一些板，传感器电阻板，线路很密，要掩的NPTH孔又都超过5.0MM，这时候可以考虑用40μm的干膜，再进行二次钻孔了(既蚀刻后钻孔)。

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从成本分析，采用干膜法进行图形转移，生产中采用此法时间最长，而采用湿法贴膜技术，是最近几年的事情。它是利用干膜水溶性特点，使膜面部分液体形式排挤基板表面留在缺陷处的气泡并能填满和粘着牢固，经湿影后确保细导线图形的完整性和一致性。其实质是排挤基板面上与干膜间残留的微气泡，以免造成精细导线产生质量缺陷（缺口、针孔、断线等）。其分辨率可达到0.08mm。但是这种工艺方法也不可能再继续提高其分辨率。
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