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上海湿敏电阻_厚博电子(优质商家)_湿敏电阻参数

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    光致抗蚀干膜是六十年代后期研制与开发出来的光成像原材料。由主体树脂和光引发剂或光交联剂组成。又根据感光材料的种类的不同,有的增加触变剂、流平剂、填料等。此种材料的特点是分辨率高、抗蚀能力强、涂布均匀、感光层的厚度可制作成25μm、分辨率达到极限值为0.10mm。工序操作简单易实现自动化生产,适合大批量印制电路板生产。但随着组装密度要求越来越高,上海湿敏电阻,印制电路图形的导细更细和间距更窄。采用此类光致抗蚀干膜,要制造出0.10-0.076mm导线宽度就显得更加困难。而且制作出更薄的光致抗蚀干膜,从加工手段分析是不太可能。所以,湿敏电阻参数,基干膜本身厚度与涂覆尺寸的收缩限制再提高是很困难的

    v干膜光致抗蚀剂的结构

    干膜光致抗蚀剂由聚酯薄膜,光致抗蚀剂膜及聚乙烯保护膜三部分组成。 聚酯薄膜是支撑感光胶层的载体,使之涂布成膜,厚度通常为25μm左右。聚酯薄膜在曝





    光之后显影之前除去,防止曝光时氧气向抗蚀剂层扩散,破坏游离基,引起感光度下降。 聚乙烯膜是复盖在感光胶层上的保护膜,防止灰尘等污物粘污干膜,避免在卷膜时,每层

    抗蚀剂膜之间相互粘连。聚乙烯膜一般厚度为25μm左右。

    光致抗蚀剂膜为干膜的主体,多为负性感光材料,其厚度视其用途不同,有若干种规格,最薄的可以是十几个微米,最厚的可达100μm。

    v

    干膜光致抗蚀剂的制作是先把预先配制好的感光胶在高清洁度的条件下,在高精度的涂 布机上涂覆于聚酯薄膜上,湿敏电阻液位传感器,经烘道干燥并冷却后,覆上聚乙烯保护膜,卷绕在一个辊芯上。

    v

    v★光致抗蚀剂膜层的主要成分及作用

    :我国大量用于生产的是全水溶性干膜,这里介绍的是全水溶性干膜感光胶层的组成。


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