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1、厚膜技术:用丝网印刷或喷涂等方法,将电子浆料涂覆在陶瓷基板上,制成所需图形,再经过烧结或聚合制造出厚膜元器件和集成电路的技术。
简称印—烧技术
2、厚膜技术的发展
厚膜技术起源于古代—唐三彩
?厚膜印—烧技术应用到电路上只有几十年的历史。
?1943年美国Centralab公司为炮弹的无线电引信生产了一种小型振荡-放大电路标志着厚膜混合微电路的诞生。
?1948年晶体管的发明使有源器件的体积大大缩小,促进了电路由体积型结构向平面型结构转化,产生了真正意义上的平面化的厚膜混合电路并开始在工业产品和消费类产品中应用。
?1959年大规模厚膜混合集成电路问世,并于1962年开始批量生产。
?1965年美国IBM公司首先将厚膜IC应用于电子计算机并获得成功,厚膜技术和厚膜IC进入成熟和大量应用。
?1975年厚膜导体浆料、介质浆料有了新发展,使细线工艺和多层布线技术有了突破,促进了厚膜IC的组装密度得到极大提高并使“二次集成”成为可能。
?1976年混合大规模厚膜IC出现。
?1980年至目前为超大规模混合集成阶段,现已能在厚膜技术基础上综合利用半导体技术、薄膜技术和其它技术成就,可以制造能完成功能很复杂的超大规模的功能块电路。
设计厚膜电阻器应注意:
?电阻器面积大小:
在微功率电路中,电阻器面积应尽可能小,但不得小于0.5~0.75mm.
?Rs大小:
尽量不采用高方阻浆料(防止噪声和温度系数过大),常用中、低阻浆料.
?浆料种类:
尽可能采用同一种浆料,阻值由N调节,不超过三种,少量特殊要求电阻器外贴。
?接触电阻的影响:
电阻长度小时,电阻体与引出区的接触电阻就不可忽略(尤其是小阻值电阻),尽量避免用高方阻浆料制造低阻电阻器。
?电阻器几何形状和尺寸对电性能的影响:
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