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v.溶剂型干膜
使用作显影剂和去膜剂,例如用1.1.1三氯显影,去膜,这两种溶
剂遇火不燃烧。醋酸丁酯等也可用作显影和去膜,但烧,很不安全。 溶剂型干膜是美国早研制并投入大量生产的一种干膜,我国早期也研制过。它的优点是技术成熟,工艺稳定,耐酸耐碱,应用范围广。但是,使用这种干膜需要消耗大量的,需要价格昂贵的显影和去膜设备及辅助装置,生产成本高,溶剂有毒,污染环境,所以日趋以水溶 性干膜所取代,仅在特殊要求时才使用。
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2. 水溶型干膜
它包括半水溶性和全水溶性两种。半水溶性干膜显影剂和去膜剂以水为主,并加有2~15%的。全水溶性的干膜显影剂和去膜剂是碱的水溶液。半水溶性干膜成本较低,而全水溶性干膜的成本,毒性亦小。
v干膜光致抗蚀剂的结构
干膜光致抗蚀剂由聚酯薄膜,光致抗蚀剂膜及聚乙烯保护膜三部分组成。 聚酯薄膜是支撑感光胶层的载体,使之涂布成膜,厚度通常为25μm左右。聚酯薄膜在曝
光之后显影之前除去,防止曝光时氧气向抗蚀剂层扩散,破坏游离基,引起感光度下降。 聚乙烯膜是复盖在感光胶层上的保护膜,防止灰尘等污物粘污干膜,避免在卷膜时,每层
抗蚀剂膜之间相互粘连。聚乙烯膜一般厚度为25μm左右。
光致抗蚀剂膜为干膜的主体,多为负光材料,其厚度视其用途不同,有若干种规格,薄的可以是十几个微米,厚的可达100μm。
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干膜光致抗蚀剂的制作是先把预先配制好的感光胶在高清洁度的条件下,在高精度的涂 布机上涂覆于聚酯薄膜上,经烘道干燥并冷却后,覆上聚乙烯保护膜,卷绕在一个辊芯上。
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v★光致抗蚀剂膜层的主要成分及作用
:我国大量用于生产的是全水溶性干膜,这里介绍的是全水溶性干膜感光胶层的组成。
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