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例1-11单相半波整流电路,如门极不加触发脉冲;晶闸管内部短路;晶闸管内部断开,试分析上述3种情况下晶闸管两端电压和负载两端电压波形。
解:(1)晶闸管门极不加触发脉冲,即晶闸管呈阻断状态,可视作开路,所以输出电压和晶闸管两端电压波形如图1-7(a)所示。
(2)晶闸管内部短路,显然晶闸管两端电压为零,此时输出电压和晶闸管两端电压波形如图1-7(b)所示。
(3)晶闸管内部开路,输出电压和晶闸管两端电压波形如图1-7(c)所示。
图1-7 例1-11波形图
v根据不同的用途选用不同目数的网版进行涂覆,以得到不同厚度的抗蚀层。实践表明:用于印制蚀刻工艺(如制作多层板内层图像)可选用200目丝网,网印后膜的厚度12土2Mm。用于图形电镀工艺在选用150目一120目丝网,网印后膜的厚度为25土2μm,以使镀层厚度不超过膜层厚度,防止由于镀层突延压住图像边缘处的抗蚀层,去膜时又去不掉,造成图像边缘不整齐。
v涂覆是在比印制板有效面积每边大出5—7mm的范围内进行,而不是整板涂覆,以有利于曝光时底版定位的牢度,因为底版定位胶带若贴在膜层上,使用几次后粘性便大大降低容易在曝光抽真空过程中产生底片偏移,特别是制作多层板内层图像时,这种偏移不易发现, 而是要当表面层做出图像并蚀刻后方能看出,但此时已无法补救,产品只能报废。
v涂覆后的板子必须上架,而且板与板之间要有一定距离,以保证下步烘烤中干燥的均匀、。
v涂覆方式除了采用网印外,大规模生产的还可以来用幕帘涂布、滚涂或喷涂等方式涂覆。
v一般在产品包装单或产品说明书上都标出光致抗蚀层的厚度,可根据不同的用途选用不
同厚度的干膜。如印制蚀刻工艺可选光致抗蚀层厚度为25μm的干膜,图形电镀工艺则需选光 致抗蚀层厚度为40μm的干膜。如用于掩孔,光致抗蚀层厚度应达到50μm。如镀厚金板还得选用50μm的镀金干膜,一般情况下, 40μm的干膜都可以满足正常的要求,在一些厂家, 40μm的干膜都可以做线宽线隙为3MIL的平行线了, 掩孔方面,也可掩住4.5MM以下的孔,当然,对那些线路简单而掩5.0MM以上的孔,选用50μm的干膜.有一些板,线路很密,要掩的NPTH孔又都超过5.0MM,这时候可以考虑用40μm的干膜,再进行二次钻孔了(既蚀刻后钻孔)。
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