厚博电子(图)-高分子湿敏电阻生产-衢州高分子湿敏电阻的详细描述：

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2、与单片集成电路的比较

•由于用于设计和工模具的固定成本更低，适合于中小批量产品生产。

•设计更改容易。

•出样周期短，能尽快投产。

•可选用元器件(基片和外贴元器件)，例如；±0．1％电阻器、 ± 1％电容器、低TCR齐 纳二极管。

•能将不同工艺的元器件混合组装，使设计灵活性更好。

•允许返工，便于以合理的成品率生产复杂的电路，并且允许适当的返修。

例1－4说明晶闸管型号KP100-8E代表。

解：KP100-8E表示额定电流100A、额定电压8级（800V、通态平均电压组别E（0.7＜UT≤0.8）普通晶闸管。

例1－5晶闸管的额定电流和其他电气设备的额定电流有什么不同？

解：由于整流设备的输出端所接负载常用平均电流来衡量其性能，所以晶闸管额定电流的标定与其他电器设备不同，采用的是平均电流，而不是有效值，又称为通态平均电流。所谓通态平均电流是指在环境温度为40℃和规定的冷却条件下，晶闸管在导通角不小于170°电阻性负载电路中，当不超过额定结温且稳定时，所允许通过的工频正弦半波电流的平均值。

光致抗蚀干膜是六十年代后期研制与开发出来的光成像原材料。由主体树脂和光引发剂或光交联剂组成。又根据感光材料的种类的不同，有的增加触变剂、流平剂、填料等。此种材料的特点是分辨率高、抗蚀能力强、涂布均匀、感光层的厚度可制作成25μm、分辨率达到极限值为0.10mm。工序操作简单易实现自动化生产，适合大批量印制电路板生产。但随着组装密度要求越来越高，印制电路图形的导细更细和间距更窄。采用此类光致抗蚀干膜，要制造出0.10-0.076mm导线宽度就显得更加困难。而且制作出更薄的光致抗蚀干膜，从加工手段分析是不太可能。所以，基干膜本身厚度与涂覆尺寸的收缩限制再提高是很困难的

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